本中心自2010年12月設立迄今，12年來致力推動電漿與薄膜科技之開發與應用，促進產官學研交流合作，年年辦理中心相關電漿與薄膜研究之成果發表會，以分享產學研界，期獲得產業實務應用之推廣與支持。今年(2022)更結合實體與視訊方式辦理國內外同步會議，會議中更邀請國外重量級學者日本大阪大學Yuichi Setsuhara教授與捷克Jaroslav Vlcek教授，分別以『Reactive Plasma Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin-Film Transistors』與『Low-temperature Scalable Deposition of Thermochromic VO2-based Coatings for Energy-Saving Smart Windows』為主題進行成果分享與交流。國內則邀請到在原子層沉積(atomic layer deposition, ALD) 技術領域執牛耳的台灣大學陳敏璋教授與在大氣壓電漿（Atmospheric Pressure Plasma, APP）技術領域開拓創新的台灣科技大學郭俞麟教授進行成果分享。

本次會議重頭戲由本中心五個研究小組進行產學成果發表，分別由生醫薄膜組林孟芳助理授教報告『軟性薄膜在生物醫學上的應用』、光電半導體薄膜組阮弼群教授報告『高功率脈衝磁控濺鍍技術在於半導體，太陽能，節能領域之應用』、電漿技術組曾傳銘助理教授報告『液態電漿鍍膜技術之開發及應用』、高功率脈衝磁控濺鍍技術組張奇龍教授報告『高功率脈衝磁控濺射鍍膜技術之開發與應用』與能源薄膜組陳政營助理教授報告『原子層沉積寬能隙氧化鋅錫緩衝層用於環境友善之大地豐富太陽能電池』，成果豐碩，令人期待。

本次會議共有130餘人參與，其中產業界出席者達35人，突破歷年與會者之紀錄，更在豐富的成果展現下獲得產業界的極度重視與好評，期待在產業需求結合下能獲得更多的創新價值產出，提升產業與學術研究的國際競爭力。

本文同時刊載於明志電子報第123期。