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亮傑攜手學界,鍍膜實驗室揭牌

最後更新日期 : 2018-02-26

薄膜科技與應用中心報導

亮傑科技公司結合明志科大薄膜研究中心,長期投入「高密度電漿技術」研發,獲得科技部深耕工業基礎技術計畫,昨(17)日在明志薄膜中心二館電漿表面工程實驗室,舉行「先進物理鍍膜系統設備與製程開發實驗室」揭牌儀式、以及複合式鍍膜系統設備的啟用典禮,未來,將高功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)系統鍍膜技術,應用到光電、工具機與生醫產業,提高生產效率。

負責薄膜中心研究團隊的明志科大材料系教授李志偉表示,中心研究團隊整合教授張奇龍、清華大學教授杜正恭、成功大學教授丁志明、虎尾科大教授張銀佑、亮傑科技公司總經理吳金龍及其領導的高真空技術團隊等產官學的技術專長,投入大量經費設備與專業人力,並於104年開始執行科技部「深耕工業基礎技術專案計畫-先進物理鍍膜技術與鍍膜系統設備開發」多年期研究計畫。

李志偉說,高功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)系統鍍膜技術,未來主要應用到光學、光電、半導體、能源、機械加工、生醫等領域,有助產業界提高生產效率。

明志科大校長劉祖華(左五)、台灣廠商、及明志薄膜中心團隊
明志科大校長劉祖華(左五)、台灣廠商、及明志薄膜中心團隊
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